国产光刻机严重打破 工信部印发推行辅导

  9月18日，光刻机板块掀起涨停潮。 张江高科、同飞股份、波长光电、海立股份涨停，新莱应材、富乐德、蓝英配备涨超10%，东方嘉盛、国林科技、京华激光、凯美特气跟涨。

  音讯面上，为促进首台(套)严重技能配备立异展开和推行应用，加强工业、财务、金融、科技等国家支撑方针的协同，工信部于9月9日印发《首台(套)严重技能配备推行应用辅导目录(2024 年版)》(以下简称《目录》)告诉，在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm)，和氟化氩光刻机(65nm)等集成电路要害出产设备。

  工信部微信大众号“工信微报”介绍，严重技能配备是国之重器，事关综合国力和国家安全。我国首台(套)严重技能配备是指国内完成严重技能打破、具有知识产权、姑且还没有获得显着商场成绩的配备产品，包含整机设备、中心体系和要害零部件等。

  《目录》中的电子专用配备目录下说到，集成电路出产设备方面包含化氟化氪光刻机，光源248纳米，分辨率110nm，套刻25nm;氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率65nm，套刻8nm。

  除了光刻机，其他集成电路出产设备还包含硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征金属膜层刻蚀机、化学气相堆积设备、物理气相堆积配备、化学机械抛光机、激光退火配备、光学线宽量测配备等。

  现在来说，光刻机共阅历了六代的展开，从最早的 436nm 波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代便是 193nm 波长的 ArF 光刻机，归于干式DUV光刻机。第五代是ArFi，即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。

  世界方面，9月6日，荷兰政府宣告，扩展光刻机出口控制规模至浸没式深紫外光刻设备。这与美国上一年10月更新的先进芯片制作技能出口控制方针进行了“对齐”。此前，荷兰政府对光刻机的出口约束办法还没有如此严厉。现在，荷兰政府自己收紧了对光刻机的出口约束阿斯麦假如要向我国出口TWINSCAN NXT：1970i和1980i类型滋润式DUV光刻体系，需求先向荷兰政府请求出口许可证。而更先进的极紫外(EUV)光刻机此前早已被彻底制止出口我国。

  我国商务部新闻发言人9月8日表明，近来，中荷两边就半导体出口控制问题展开了多层级、多频次的交流商量。荷方在2023年半导体出口控制办法的基础上，逐渐扩展对光刻机的控制规模，中方对此表明不满。

  我国电力网于1999年正式上线运转，是我国电力展开促进会主办的全国性电力行业门户网站。