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作为电子科技类产品中的灵魂部件，芯片的存在如同人的大脑一般将直接决定电子科技类产品的性能和功耗。但是就是如此重要的一大技术，却成为了困扰我国电子产业高质量发展的壁垒，在长时间需要依赖进口欧美芯片后，使得我国厂商不仅没有议价权，同时还会面临着卡脖子的情况。
近两年，接二连三发生的中兴和华为事件，无一例外都对我国庞大的电子产业体系敲响警钟，实现芯片研发独立自主迫在眉睫。可是，当希望变成泡影后，国人对于国产芯片却有了一种恨铁不成钢的想法，但要知道，芯片属于高精尖产业，研发难度和门槛都比较高，想在极短的时间内获得技术上的突破也并非容易之事。
在一般情况下，芯片从研发到完成涉及到设计、制造和封装，而在这样的一个过程中更是涵盖了上千道工艺，对精细化的要求不可谓不高。不过，在国家和各行各业的重视下，当前芯片设计和封装基本已不再是难题，真正困扰中国芯片产业高质量发展的也成为了制作的完整过程中不可或缺的设备。
好在大量的资金和人才注入后，如今中国芯片产业也传来了2大捷报，这2大捷报基本都涉及于芯片制造不可或缺的设备。第一大捷报便是，蚀刻机的研发成功。根据媒体在近日的报道，由中微半导体自主研发的5nm蚀刻机已达到了国际领先水平，并成功交付于台积电，用于台积电5nm芯片生产的全部过程中。
相比于光刻机，国人对于蚀刻机的认知较为局限，但要知道，蚀刻机在芯片制作的完整过程中同样也扮演着至关重要的角色，在芯片制造的过程中，蚀刻机将会去掉那些不需要的部分，剩下的便是电路结构。所以5nm蚀刻机的研发成功，对中国芯片制造结构的重要性不言而喻。同时，除了蚀刻机之外，国产光刻机也在近期突破了技术封锁。
根据媒体在近期报道，上海微电子传来了好消息，将于明年开始交付国内首台28nm浸没式光刻机，虽然相比于荷兰ASML高端光刻机，上海微电子28nm光刻机在制程工艺上还有着很大的缺陷，但是从此前仅生产90nm光刻机到当前一跃进入28nm工艺，上海微电子成功研发出国产光刻机对于庞大的芯片产业有着重要的意义。
除了光刻机和蚀刻机之外，离子注入机的成功研发则是第三大捷报。据悉，中国电子科技集团宣布，该集团旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功，实现百万电子伏特高能离子加速，性能达到国际领先水平。因此，三大芯片制造设备的成功研发也标志着，中国芯在未来将发光发热。
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