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【北方华创发布国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机】近来，北方华创正式对外发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX，该机台首要掩盖逻辑范畴多个技能节点中以AIO (双大马士革刻蚀工艺)、Contact (触摸孔)为代表的要害介质刻蚀制程，并可扩展到存储范畴的CMOS (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于Low-K（低介电常数）介质及惯例介质资料的刻蚀工艺。
近来，北方华创正式对外发布新品——12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX，该机台首要掩盖逻辑范畴多个技能节点中以AIO (双大马士革刻蚀工艺)、Contact (触摸孔)为代表的要害介质刻蚀制程，并可扩展到存储范畴的CMOS (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于Low-K（低介电常数）介质及惯例介质资料的刻蚀工艺。